所屬分類：快速退火爐
RTP-SA-12半自動快速退火爐是在保護氣下的半自動立式快速退火系統，以紅外可見光加熱單片 Wafer 或樣品，工藝時間短，控溫精度高，適用 4-12 英寸片。
RTP-SA-12半自動快速退火爐是在保護氣下的半自動立式快速退火系統，以紅外可見光加熱單片 Wafer 或樣品，工藝時間短，控溫精度高，適用 4-12 英寸片。相對于傳統擴散爐退火系統和其他 RTP 系統，其獨特的腔體設計、先進的溫度控制技術和獨有的 RL900 軟件控制系統，確保了極好的熱均勻性。
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